12인치 SiC 기판 N형 대형 고성능 RF 애플리케이션
기술적 매개변수
| 12인치 탄화규소(SiC) 기판 사양 | |||||
| 등급 | 제로MPD 프로덕션 등급(Z등급) | 표준 생산 등급(P 등급) | 더미 등급 (D등급) | ||
| 지름 | 300mm~1305mm | ||||
| 두께 | 4H-N | 750μm±15μm | 750μm±25μm | ||
| 4H-SI | 750μm±15μm | 750μm±25μm | |||
| 웨이퍼 방향 | 축외: 4H-N의 경우 <1120 방향으로 4.0° ±0.5°, 축상: 4H-SI의 경우 <0001> ±0.5° | ||||
| 마이크로파이프 밀도 | 4H-N | ≤0.4cm-2 | ≤4cm-2 | ≤25cm-2 | |
| 4H-SI | ≤5cm-2 | ≤10cm-2 | ≤25cm-2 | ||
| 저항률 | 4H-N | 0.015~0.024 Ω·cm | 0.015~0.028 Ω·cm | ||
| 4H-SI | ≥1E10 Ω·cm | ≥1E5 Ω·cm | |||
| 기본 평면 방향 | {10-10} ±5.0° | ||||
| 기본 평면 길이 | 4H-N | 해당 사항 없음 | |||
| 4H-SI | 골짜기 | ||||
| 에지 제외 | 3mm | ||||
| LTV/TTV/보우/워프 | ≤5μm/<15μm/<35μm/<55μm | 5μm 이하/15μm/35μm 이하/35μm/55μm 이하 | |||
| 거 | 폴란드 Ra≤1 nm | ||||
| CMP Ra≤0.2 nm | Ra≤0.5 nm | ||||
| 고강도 조명에 의한 모서리 균열 고강도 조명을 이용한 육각형 플레이트 고강도 빛을 이용한 다형체 영역 시각적 탄소 함유물 고강도 빛에 의한 실리콘 표면 긁힘 | 없음 누적 면적 ≤0.05% 없음 누적 면적 ≤0.05% 없음 | 누적 길이 ≤ 20mm, 단일 길이 ≤ 2mm 누적 면적 ≤0.1% 누적 면적≤3% 누적 면적 ≤3% 누적 길이 ≤1×웨이퍼 직경 | |||
| 고강도 빛을 이용한 엣지 칩 | 너비와 깊이가 0.2mm 이상인 것은 허용되지 않습니다. | 7개까지 허용, 각 1mm 이하 | |||
| (TSD) 나사산 탈구 | ≤500 cm-2 | 해당 사항 없음 | |||
| (BPD) 기저면 전위 | ≤1000 cm-2 | 해당 사항 없음 | |||
| 고강도 빛에 의한 실리콘 표면 오염 | 없음 | ||||
| 포장 | 멀티 웨이퍼 카세트 또는 싱글 웨이퍼 용기 | ||||
| 참고: | |||||
| 1. 결함 제한은 가장자리 제외 영역을 제외한 웨이퍼 전체 표면에 적용됩니다. 2스크래치는 실리콘(Si) 면에서만 확인해야 합니다. 3. 전위 데이터는 KOH로 에칭된 웨이퍼에서만 얻은 것입니다. | |||||
주요 특징
1. 대형 크기 이점: 12인치 SiC 기판(12인치 탄화규소 기판)은 더 넓은 웨이퍼 면적을 제공하여 웨이퍼당 더 많은 칩을 생산할 수 있으므로 제조 비용을 절감하고 수율을 높일 수 있습니다.
2. 고성능 소재: 탄화규소는 고온 저항성과 높은 절연 파괴 강도를 지니고 있어 12인치 기판은 전기차 인버터 및 고속 충전 시스템과 같은 고전압 및 고주파 응용 분야에 이상적입니다.
3. 가공 호환성: SiC는 경도가 높고 가공이 까다롭지만, 12인치 SiC 기판은 최적화된 절단 및 연마 기술을 통해 표면 결함을 줄여 소자 수율을 향상시킵니다.
4. 탁월한 열 관리: 실리콘 기반 소재보다 열전도율이 우수한 12인치 기판은 고출력 장치의 열 방출을 효과적으로 처리하여 장비 수명을 연장합니다.
주요 응용 분야
1. 전기 자동차: 12인치 SiC 기판(12인치 탄화규소 기판)은 차세대 전기 구동 시스템의 핵심 부품으로, 주행 거리를 늘리고 충전 시간을 단축하는 고효율 인버터를 구현합니다.
2. 5G 기지국: 대형 SiC 기판은 고주파 RF 장치를 지원하여 고출력 및 저손실이 요구되는 5G 기지국의 요구 사항을 충족합니다.
3. 산업용 전원 공급 장치: 태양광 인버터 및 스마트 그리드에서 12인치 기판은 에너지 손실을 최소화하면서 더 높은 전압을 견딜 수 있습니다.
4. 소비자 가전: 향후 고속 충전기 및 데이터 센터 전원 공급 장치는 소형화 및 고효율 구현을 위해 12인치 SiC 기판을 채택할 수 있습니다.
XKH의 서비스
당사는 12인치 SiC 기판(12인치 탄화규소 기판)에 대한 맞춤형 가공 서비스를 전문으로 제공하며, 다음과 같은 서비스를 포함합니다.
1. 절단 및 연마: 고객 요구사항에 맞춘 저손상, 고평탄도 기판 가공으로 안정적인 장치 성능을 보장합니다.
2. 에피택셜 성장 지원: 칩 제조 속도를 높이기 위한 고품질 에피택셜 웨이퍼 서비스.
3. 소량 생산 시제품 제작: 연구 기관 및 기업의 연구 개발 검증을 지원하고 개발 주기를 단축합니다.
4. 기술 컨설팅: 소재 선정부터 공정 최적화까지 전 과정에 걸친 솔루션을 제공하여 고객이 SiC 가공상의 어려움을 극복할 수 있도록 지원합니다.
대량 생산이든 특수 맞춤 제작이든, 당사의 12인치 SiC 기판 서비스는 고객 프로젝트 요구 사항에 맞춰 기술 발전을 지원합니다.









