고온 내성을 갖춘 웨이퍼 캐리어용 SiC 세라믹 트레이

간략한 설명:

실리콘 카바이드(SiC) 세라믹 트레이는 2450°C에서 소결된 초고순도 SiC 분말(>99.1%)로 제작되며, 3.10g/cm³의 밀도, 최대 1800°C의 내열성, 250~300W/m·K의 열전도율을 특징으로 합니다. 이 트레이는 반도체 MOCVD 및 ICP 에칭 공정에서 웨이퍼 캐리어로 탁월한 성능을 발휘하며, 낮은 열팽창률(4×10⁻⁶/K) 덕분에 고온에서도 안정성을 유지하고 기존 흑연 캐리어에서 발생하는 오염 위험을 제거합니다. 표준 직경은 최대 600mm이며, 진공 흡입 및 맞춤형 홈 가공 옵션도 제공됩니다. 정밀 가공을 통해 0.01mm 미만의 평탄도 편차를 보장하여 GaN 박막의 균일성과 LED 칩 수율을 향상시킵니다.


특징

탄화규소 세라믹 트레이(SiC 트레이)

실리콘 카바이드(SiC) 소재를 기반으로 하는 고성능 세라믹 부품으로, 반도체 제조 및 LED 생산과 같은 첨단 산업 응용 분야에 맞게 설계되었습니다. 탁월한 열전도율, 고온 저항성 및 화학적 안정성을 활용하여 공정 균일성과 제품 수율을 보장하며, 웨이퍼 캐리어, 에칭 공정 플랫폼 또는 고온 공정 지원재 역할을 수행하는 것이 핵심 기능입니다.

주요 특징

1. 열 성능

  • 높은 열전도율: 140~300W/m·K로 기존 흑연(85W/m·K)을 크게 능가하여 빠른 열 방출과 열 응력 감소를 가능하게 합니다.
  • 낮은 열팽창 계수: 4.0×10⁻⁶/℃ (25–1000℃), 실리콘(2.6×10⁻⁶/℃)과 매우 유사하여 열 변형 위험을 최소화합니다.

2. 기계적 특성

  • 고강도: 굴곡 강도 ≥320 MPa(20℃), 압축 및 충격에 강함.
  • 높은 경도: 모스 경도 9.5로 다이아몬드 다음으로 높아 탁월한 내마모성을 제공합니다.

3. 화학적 안정성

  • 내식성: 강산(예: HF, H₂SO₄)에 대한 내성이 뛰어나며 에칭 공정 환경에 적합합니다.
  • 비자성: 고유 자기 감수율이 1×10⁻⁶ emu/g 미만으로 정밀 기기와의 간섭을 방지합니다.

4. 극한 환경 내성

  • 고온 내구성: 장기 작동 온도 1600~1900℃, 단기 내열 온도 2200℃ (무산소 환경).
  • 내열충격성: 급격한 온도 변화(ΔT > 1000℃)에도 균열 없이 견딥니다.

https://www.xkh-semitech.com/sic-ceramic-tray-for-wafer-carrier-with-high-temperature-resistance%e2%80%8b%e2%80%8b-product/

응용 프로그램

지원 분야

구체적인 시나리오

기술적 가치

반도체 제조

웨이퍼 에칭(ICP), 박막 증착(MOCVD), CMP 연마

높은 열전도율은 균일한 온도 분포를 보장하고, 낮은 열팽창률은 웨이퍼 변형을 최소화합니다.

LED 프로덕션

에피택셜 성장(예: GaN), 웨이퍼 절단, 패키징

다양한 유형의 결함을 억제하여 LED 발광 효율과 수명을 향상시킵니다.

태양광 산업

실리콘 웨이퍼 소결로, PECVD 장비 지원

고온 및 열충격 저항성은 장비의 수명을 연장합니다.

레이저 및 광학

고출력 레이저 냉각 기판, 광학 시스템 지원

높은 열전도율은 빠른 열 방출을 가능하게 하여 광학 부품을 안정화합니다.

분석 기기

TGA/DSC 시료 홀더

낮은 열용량과 빠른 열 반응 속도는 측정 정확도를 향상시킵니다.

제품 장점

  1. 종합적인 성능: 열전도율, 강도 및 내식성은 알루미나 및 질화규소 세라믹을 훨씬 능가하여 극한의 작동 조건을 충족합니다.
  2. 경량 설계: 밀도가 3.1~3.2g/cm³(강철의 40%)에 불과하여 관성 부하를 줄이고 동작 정밀도를 향상시킵니다.
  3. 긴 수명 및 신뢰성: 1600℃에서 5년 이상 사용 가능하여 가동 중지 시간을 줄이고 운영 비용을 30% 절감합니다.
  4. 맞춤 제작: 정밀한 응용 분야를 위해 15μm 미만의 평탄도 오차로 복잡한 형상(예: 다공성 흡착컵, 다층 트레이)을 지원합니다.

기술 사양

매개변수 범주

지표

물리적 특성

밀도

≥3.10 g/cm³

굽힘 강도(20℃)

320~410 MPa

열전도율(20℃)

140–300 W/(m·K)

열팽창 계수(25~1000℃)

4.0×10⁻⁶/℃

화학적 성질

내산성(HF/H₂SO₄)

24시간 침수 후에도 부식이 발생하지 않았습니다.

정밀 가공

평탄

≤15 μm (300×300 mm)

표면 거칠기(Ra)

≤0.4 μm

XKH의 서비스

XKH는 맞춤형 개발, 정밀 가공 및 엄격한 품질 관리를 아우르는 포괄적인 산업 솔루션을 제공합니다. 맞춤형 개발 분야에서는 고순도(>99.999%) 및 다공성(30~50% 다공성) 소재 솔루션을 제공하며, 반도체 및 항공우주 분야와 같은 응용 분야에 최적화된 복잡한 형상을 구현하기 위해 3D 모델링 및 시뮬레이션을 활용합니다. 정밀 가공은 분말 처리 → 등방압/건식 프레스 → 2200°C 소결 → CNC/다이아몬드 연삭 → 검사의 간소화된 공정을 통해 나노미터 수준의 정밀 연마와 ±0.01mm의 치수 공차를 보장합니다. 품질 관리는 전 공정 테스트(XRD 성분 분석, SEM 미세구조 분석, 3점 굽힘 시험) 및 기술 지원(공정 최적화, 연중무휴 24시간 상담, 48시간 샘플 제공)을 포함하여 첨단 산업 분야의 요구에 부응하는 신뢰할 수 있고 고성능의 부품을 제공합니다.

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자주 묻는 질문(FAQ)

 1. 질문: 어떤 산업 분야에서 탄화규소 세라믹 트레이를 사용하나요?

A: 극도의 내열성과 화학적 안정성 덕분에 반도체 제조(웨이퍼 처리), 태양 에너지(PECVD 공정), 의료 기기(MRI 부품) 및 항공 우주(고온 부품) 분야에서 널리 사용됩니다.

2. 질문: 탄화규소가 석영/유리 트레이보다 우수한 이유는 무엇입니까?

A: 더 높은 열충격 저항성(수정의 1100°C 대비 최대 1800°C), 자기 간섭 없음, 그리고 더 긴 수명(수정의 6~12개월 대비 5년 이상).

3. 질문: 탄화규소 트레이는 산성 환경을 견딜 수 있습니까?

A: 네. HF, H2SO4, NaOH에 대한 내성이 뛰어나며 연간 부식률이 0.01mm 미만이므로 화학적 에칭 및 웨이퍼 세척에 이상적입니다.

4. 질문: 탄화규소 트레이는 자동화 시스템과 호환됩니까?

A: 네. 진공 픽업 및 로봇 핸들링에 적합하게 설계되었으며, 자동화된 제조 시설에서 입자 오염을 방지하기 위해 표면 평탄도가 0.01mm 미만입니다.

5. 질문: 기존 재료와 비교했을 때 비용 차이는 어떻게 되나요?

A: 초기 구매 비용은 석영보다 3~5배 높지만, 우수한 열전도율로 인한 수명 연장, 가동 중단 시간 감소, 에너지 절약 덕분에 총 소유 비용(TCO)이 30~50% 절감됩니다.


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