12인치 SiC 기판 N형 대형 고성능 RF 애플리케이션
기술적 매개변수
12인치 실리콘 카바이드(SiC) 기판 사양 | |||||
등급 | ZeroMPD 프로덕션 등급(Z등급) | 표준 생산 등급(P등급) | 더미 등급 (D등급) | ||
지름 | 3 0 0 mm~1305mm | ||||
두께 | 4H-N | 750μm±15μm | 750μm±25μm | ||
4H-SI | 750μm±15μm | 750μm±25μm | |||
웨이퍼 방향 | 축 외: 4H-N의 경우 <1120 >±0.5° 방향으로 4.0°, 축 상: 4H-SI의 경우 <0001>±0.5° | ||||
마이크로파이프 밀도 | 4H-N | ≤0.4cm-2 | ≤4cm-2 | ≤25cm-2 | |
4H-SI | ≤5cm-2 | ≤10cm-2 | ≤25cm-2 | ||
저항률 | 4H-N | 0.015~0.024Ω·cm | 0.015~0.028Ω·cm | ||
4H-SI | ≥1E10Ω·cm | ≥1E5Ω·cm | |||
기본 평면 방향 | {10-10} ±5.0° | ||||
기본 플랫 길이 | 4H-N | 해당 없음 | |||
4H-SI | 골짜기 | ||||
에지 제외 | 3mm | ||||
LTV/TTV/활/워프 | ≤5μm/<15μm/<35μm/<55μm | 5μm 이하/15μm/35μm 이하/35μm/55μm 이하 | |||
거 | 폴란드 Ra≤1 nm | ||||
CMP Ra≤0.2nm | Ra≤0.5nm | ||||
고강도 조명으로 인한 가장자리 균열 고강도 조명의 육각형 플레이트 고강도 조명을 통한 폴리타입 영역 시각적 탄소 내포물 고강도 빛에 의한 실리콘 표면 스크래치 | 없음 누적 면적 ≤0.05% 없음 누적 면적 ≤0.05% 없음 | 누적 길이 ≤ 20mm, 단일 길이 ≤ 2mm 누적 면적 ≤0.1% 누적 면적≤3% 누적 면적 ≤3% 누적 길이≤1×웨이퍼 직경 | |||
고강도 조명으로 엣지 칩 | ≥0.2mm 폭 및 깊이는 허용되지 않습니다. | 7개 허용, 각각 ≤1mm | |||
(TSD) 나사산 탈구 | ≤500cm-2 | 해당 없음 | |||
(BPD) 기저면 전위 | ≤1000cm-2 | 해당 없음 | |||
고강도 빛에 의한 실리콘 표면 오염 | 없음 | ||||
포장 | 다중 웨이퍼 카세트 또는 단일 웨이퍼 컨테이너 | ||||
참고사항: | |||||
1 결함 한도는 가장자리 제외 영역을 제외한 전체 웨이퍼 표면에 적용됩니다. 2. 긁힘은 Si 면에서만 확인해야 합니다. 3 전위 데이터는 KOH 에칭 웨이퍼에서만 얻은 것입니다. |
주요 특징
1. 대형 크기의 장점: 12인치 SiC 기판(12인치 실리콘 카바이드 기판)은 더 넓은 단일 웨이퍼 면적을 제공하여 웨이퍼당 더 많은 칩을 생산할 수 있으므로 제조 비용이 절감되고 수율이 높아집니다.
2. 고성능 소재: 실리콘 카바이드의 고온 저항성과 높은 파괴 전계 강도로 인해 12인치 기판은 EV 인버터 및 고속 충전 시스템과 같은 고전압 및 고주파 응용 분야에 이상적입니다.
3. 가공 호환성: SiC의 높은 경도와 가공 과제에도 불구하고, 12인치 SiC 기판은 최적화된 절단 및 연마 기술을 통해 표면 결함을 낮추어 장치 수율을 향상시킵니다.
4. 뛰어난 열 관리: 실리콘 기반 소재보다 열전도성이 뛰어난 12인치 기판은 고전력 장치의 방열 문제를 효과적으로 해결하여 장비 수명을 연장합니다.
주요 응용 분야
1. 전기 자동차: 12인치 SiC 기판(12인치 실리콘 카바이드 기판)은 차세대 전기 구동 시스템의 핵심 구성 요소로, 주행거리를 늘리고 충전 시간을 단축하는 고효율 인버터를 구현합니다.
2. 5G 기지국: 대형 SiC 기판은 고주파 RF 장치를 지원하여 고전력, 저손실이라는 5G 기지국의 요구 사항을 충족합니다.
3. 산업용 전원 공급 장치: 태양광 인버터와 스마트 그리드에서 12인치 기판은 에너지 손실을 최소화하면서 더 높은 전압을 견딜 수 있습니다.
4. 소비자용 전자제품: 미래의 고속 충전기와 데이터 센터 전원 공급 장치는 소형화와 더 높은 효율을 달성하기 위해 12인치 SiC 기판을 채택할 가능성이 있습니다.
XKH의 서비스
당사는 다음을 포함하여 12인치 SiC 기판(12인치 실리콘 카바이드 기판)에 대한 맞춤형 가공 서비스를 전문으로 합니다.
1. 다이싱 & 폴리싱: 고객 요구 사항에 맞춰 손상이 적고 평탄도가 높은 기판을 가공하여 안정적인 장치 성능을 보장합니다.
2. 에피택셜 성장 지원: 칩 제조를 가속화하기 위한 고품질 에피택셜 웨이퍼 서비스.
3. 소량 프로토타입 제작: 연구 기관 및 기업의 R&D 검증을 지원하여 개발 주기를 단축합니다.
4. 기술 컨설팅: 소재 선택부터 공정 최적화까지 엔드투엔드 솔루션을 제공하여 고객이 SiC 공정 과제를 극복할 수 있도록 지원합니다.
대량 생산이든 특수 맞춤형이든, 당사의 12인치 SiC 기판 서비스는 귀하의 프로젝트 요구 사항에 맞춰 기술 발전을 지원합니다.


