GaAs 레이저 에피택셜 웨이퍼 4인치 6인치 VCSEL 수직 공동 표면 방출 레이저 파장 940nm 단일 접합
GaAs 레이저 에피택셜 시트의 주요 특징은 다음과 같습니다.
1. 단일 접합 구조: 이 레이저는 일반적으로 단일 양자 우물로 구성되어 효율적인 광 방출을 제공할 수 있습니다.
2. 파장: 940nm의 파장은 적외선 스펙트럼 범위에 속하므로 다양한 응용 분야에 적합합니다.
3. 높은 효율: 다른 유형의 레이저와 비교하여 VCSEL은 높은 전기광학 변환 효율을 가지고 있습니다.
4. 소형화: VCSEL 패키지는 비교적 작고 통합하기 쉽습니다.
5. 낮은 임계 전류 및 높은 효율: 매립형 이종 구조 레이저는 극히 낮은 레이저 임계 전류 밀도(예: 4mA/cm²)와 높은 외부 차동 양자 효율(예: 36%)을 나타내며 선형 출력 전력은 15mW를 초과합니다.
6. 도파관 모드 안정성: 매립형 이종 구조 레이저는 굴절률 유도 도파관 메커니즘과 좁은 활성 스트립 폭(약 2μm)으로 인해 도파관 모드 안정성이라는 장점이 있습니다.
7. 우수한 광전 변환 효율: 에피택셜 성장 공정을 최적화함으로써 높은 내부 양자 효율과 광전 변환 효율을 얻어 내부 손실을 줄일 수 있습니다.
8. 높은 신뢰성과 수명: 고품질 에피택셜 성장 기술은 표면 외관이 좋고 결함 밀도가 낮은 에피택셜 시트를 제조하여 제품 신뢰성과 수명을 향상시킬 수 있습니다.
9. 다양한 응용 분야에 적합: GAAS 기반 레이저 다이오드 에피택셜 시트는 광섬유 통신, 산업용 응용 분야, 적외선 및 광검출기 및 기타 분야에서 널리 사용됩니다.
GaAs 레이저 에피택셜 시트의 주요 응용 방법은 다음과 같습니다.
1. 광통신 및 데이터 통신: GaAs 에피택셜 웨이퍼는 광통신 분야, 특히 고속 광통신 시스템에서 레이저 및 검출기와 같은 광전자 소자를 제조하는 데 널리 사용됩니다.
2. 산업적 응용 분야: GaAs 레이저 에피택셜 시트는 레이저 가공, 측정 및 감지와 같은 산업적 응용 분야에서도 중요한 용도로 사용됩니다.
3. 가전제품: 가전제품에서 GaAs 에피택셜 웨이퍼는 VC셀(수직 공동 표면 방출 레이저)을 제조하는 데 사용되며, 이는 스마트폰과 기타 가전제품에 널리 사용됩니다.
4. RF 응용 분야: GaAs 소재는 RF 분야에서 상당한 이점을 가지고 있으며 고성능 RF 장치를 제조하는 데 사용됩니다.
5. 양자점 레이저: GAAS 기반 양자점 레이저는 통신, 의료 및 군사 분야에서 널리 사용되고 있으며, 특히 1.31µm 광통신 대역에서 사용됩니다.
6. 수동 Q 스위치: GaAs 흡수체는 수동 Q 스위치가 있는 다이오드 펌핑 고체 레이저에 사용되며, 미세 가공, 거리 측정 및 미세 수술에 적합합니다.
이러한 응용 분야는 광범위한 첨단 기술 응용 분야에서 GaAs 레이저 에피택셜 웨이퍼의 잠재력을 보여줍니다.
XKH는 고객 요구 사항에 맞춰 다양한 구조와 두께의 GaAs 에피택셜 웨이퍼를 제공하며, VCSEL/HCSEL, WLAN, 4G/5G 기지국 등 광범위한 응용 분야에 적용됩니다. XKH의 제품은 고성능과 신뢰성을 보장하기 위해 최첨단 MOCVD 장비를 사용하여 제조됩니다. 물류 측면에서는 다양한 해외 공급 채널을 보유하고 있으며, 주문량을 유연하게 처리하고 박막화, 분할 등의 부가가치 서비스를 제공합니다. 효율적인 배송 프로세스를 통해 정시 납품을 보장하고 고객 요구 사항인 품질 및 납기 준수를 충족합니다. 제품 도착 후에는 제품의 원활한 사용을 위해 종합적인 기술 지원 및 애프터서비스를 제공합니다.
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