Si 복합 기판 Dia6inch의 N형 SiC
等级등급 | 유 级 | P级 | D级 |
낮은 BPD 등급 | 생산 등급 | 더미 등급 | |
直径지름 | 150.0mm±0.25mm | ||
각도두께 | 500μm±25μm | ||
晶分方向웨이퍼 오리엔테이션 | 축 외 : 4H-N의 경우 < 11-20 > ±0.5° 방향으로 4.0° 축 상 : 4H-SI의 경우 <0001>±0.5° | ||
主定位边方向1차 아파트 | {10-10}±5.0° | ||
주 사용자 지정 속도1차 플랫 길이 | 47.5mm±2.5mm | ||
边缘가장자리 제외 | 3mm | ||
总厚島变化/弯曲道/翘曲titude TTV/활/워프 | 15μm 이하 / 40μm / 60μm 이하 | ||
微管密degree와 基면位错MPD&BPD | MPD≤1cm-2 | MPD≤5cm-2 | MPD≤15cm-2 |
BPD≤1000cm-2 | |||
电阻率비저항 | ≥1E5Ω·cm | ||
表face粗糙道거 | 폴란드어 Ra≤1nm | ||
CMP Ra≤0.5nm | |||
裂纹(强光灯观测) # | 없음 | 누적 길이 ≤10mm, 단일 길이≤2mm | |
고강도 빛에 의한 균열 | |||
六방공洞(强光灯观测)* | 누적 면적 ≤1% | 누적 면적 ≤5% | |
고강도 빛에 의한 Hex Plate | |||
더 많은(强光灯观测)* | 없음 | 누적 면적 ≤5% | |
고강도 빛에 의한 다형 영역 | |||
划痕(强光灯观测)*& | 1×웨이퍼 직경에 3개의 스크래치 | 1×웨이퍼 직경에 스크래치 5개 | |
고강도 빛에 의한 긁힘 | 누적 길이 | 누적 길이 | |
崩边# 엣지 칩 | 없음 | 5개 허용, 각각 1mm 이하 | |
表面污染(强光灯观测) | 없음 | ||
고강도 빛에 의한 오염 |
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